工艺介绍：
（1）使用特殊纯化材料，通过吸附方式脱除H2O、NMHC、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、总有机碳TOC等杂质。
（2）吸附反应器吸附饱和后可加热再生，反复使用。
（3）该气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CDA中的污染杂质，满足客户现场需求
（4）多柱交替吸附、再生，可连续供气。