HON-H-X系列氢气纯化器
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系列 Series |
杂质 Impurity |
入口 Inlet（ppm） |
出口 Outlet（ppb） |
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HON-H-X |
O2 |
＜3 |
＜1 |
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N2 |
＜1 |
＜1 |
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CO |
＜1 |
＜1 |
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CO2 |
＜1 |
＜1 |
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THC |
＜1 |
＜1 |
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H2O |
＜3 |
＜1 |
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PARTICLES |
-- |
≤10pcs/m3, 0.003μm |
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Pressure Drop |
＜1bar |
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Flow |
10～500Nm3/h |
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工艺介绍：
（1）通过吸气工序高温深度脱除O2、CO、CO2、H2O、 CH4、N2等杂质。
（2）吸气反应器吸附饱和后须整体更换。
应用领域：
集成电路制造行业
半导体、LED、激光、太阳能光伏行业
气体行业
