HON-O-OS/OW/OV系列氧气纯化器
|
系列 Series |
杂质 Impurity |
入口 Inlet（ppm） |
出口 Outlet（ppb） |
|
HON-O-OS/OW/OV |
H2 |
＜1 |
＜1 |
|
CO |
＜1 |
＜1 |
|
|
CO2 |
＜1 |
＜1 |
|
|
THC |
＜2 |
＜1 |
|
|
H2O |
＜3 |
＜1 |
|
|
PARTICLES |
-- |
≤10pcs/m3, 0.003μm |
|
|
Pressure Drop |
＜1bar |
||
|
Flow |
10～12000Nm3/h |
||
工艺介绍：
（1）高温催化氧化工序，气体中CH4、还原性杂质与O2反应转化为H2O和CO2。
（2）通过物理吸附脱除CO2、H2O。
（3）吸附反应器吸附饱和后可通氧气加热再生，反复使用。
（4）多柱交替吸附、再生，可连续供气。
应用领域：
集成电路制造行业
半导体、LED、激光、太阳能光伏行业
光纤行业
气体行业
