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半导体/电子特气领域纯化设备供应商
HON-He/Ar/Ne/Xe-SX/WX/VX系列惰性气体纯化器
系列 Series |
杂质 Impurity |
入口 Inlet(ppm) |
出口 Outlet(ppb) |
HON- He/Ar/Ne/Xe -SX/WX/VX |
O2 |
<3 |
<1 |
N2 |
<1 |
<1 |
|
H2 |
<1 |
<1 |
|
CO |
<1 |
<1 |
|
CO2 |
<1 |
<1 |
|
THC |
<1 |
<1 |
|
H2O |
<3 |
<1 |
|
PARTICLES |
-- |
≤10pcs/m3, 0.003μm |
|
Pressure Drop |
<1bar |
||
Flow |
10~3000Nm3/h |
工艺介绍:
(1)先通过物理和化学吸附脱除O2、CO、CO2、H2O等杂质。
(2)通过吸气工序高温下进一步脱除O2、CO、CO2、H2O同时深度脱除CH4、N2。
(3)通过脱氢工序常温下深度脱除H2杂质。
(4)吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生,反复使用。
(5)吸气反应器吸附饱和后须整体更换。
应用领域:
集成电路制造行业
半导体、LED、激光、太阳能光伏行业
气体行业
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