HON-CO2-OS/OW/OV系列二氧化碳纯化器
|
系列 Series |
杂质 Impurity |
入口 Inlet（ppm） |
出口 Outlet（ppb） |
|
HON-CO2-OS/OW/OV |
O2 |
＜3 |
＜1 |
|
H2 |
＜1 |
＜1 |
|
|
CO |
＜1 |
＜1 |
|
|
CH4 |
＜0.5 |
＜1 |
|
|
H2O |
＜3 |
＜1 |
|
|
挥发性酸VA |
-- |
＜0.005 |
|
|
挥发性碱VB |
-- |
＜0.5 |
|
|
耐熔化合物RC |
-- |
＜0.005 |
|
|
可冷凝有机物Corg |
-- |
＜0.15 |
|
|
不凝有机物Ncorg |
-- |
＜1 |
|
|
Flow |
10～3000Nm3/h |
||
工艺介绍：
（1）高温催化氧化工序，气体中CH4、还原性杂质与O2反应转化为H2O和CO2。
（2）使用特殊纯化材料，通过物理和化学吸附方式脱除O2、CO、H2O、H2、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。
（3）吸附反应器吸附饱和后可通氢加热再生，反复使用。
（4）多柱交替吸附、再生，可连续供气。
应用领域：
纯化用于半导体应用的二氧化碳
